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脉冲激光沉积系统

国产进口 : 进口
产地品牌 : 美国Neocera
型 号 : Pioneer 120 Advanced PLD System
总访问 : 2577
产品类别 : 其它各类仪器
最后更新 : 2026-03-20 08:30:08
产品介绍
公司简介

产品简介
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于卓越经验的创新设计,利用PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得最佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。
这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能(压力范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的最大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得最佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离,以达到最优的沉积条件。

技术参数

项目 Pioneer240 Pioneer180 Pioneer120A
最大wafer 直径 8” 6” 2”
最大靶材数量 6 个1” 或3 个2” 6 个1” 或3 个2” 6 个1” 或3 个2”
压力(Torr) * 5*10-8 5*10-9 5*10-9
真空室直径 24” 18” 12”
基片加热器 360°旋转 360°旋转 360°旋转
最高样品温度 850 ℃ 850 ℃ 950 ℃
Turbo 泵抽速*
(liters/sec)
700
软件控制
400
软件控制
260
软件控制
计算机控制 包括 包括 包括
基片旋转 包括 包括 选件
基片预真空室 包括 选件 选件
扫描激光束系统 包括 选件 -
靶预真空室 包括 选件 -
IBAD 离子束辅助沉积 选件 选件 选件
CCS 连续组成扩展 选件 选件 -
高压RHEED 选件 选件 选件
520 liters/sec 泵 N/A 选件 -


应用领域
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD是一种“ 数字” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(Å/pulse)。
• Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验
• Pioneer 系列PLD 系统是全球研发领域最为广泛使用的商业化系统
• Neocera 不仅为客户提供最基本的PLD系统,也提供完整的PLD实验室交钥匙方案

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